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deposition rateとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 溶着速度; 析出速度; 蒸着速度; 沈着率; 蒸着率; たい積率
「deposition rate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 630件
To improve a vaporizing rate and deposition rate of a MgO vapor deposition material when forming a film with an electron-beam vapor deposition technique.例文帳に追加
電子ビーム蒸着法にて、ＭｇＯ蒸着材の蒸発速度・成膜速度の改善を図る。 - 特許庁
INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING FILM DEPOSITION RATE OF FILM DEPOSITION APPARATUS例文帳に追加
成膜装置に於ける成膜速度測定装置および方法 - 特許庁
As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加
しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁
To realize a deposition system having a stable deposition rate by suppressing the solidification of a deposition material.例文帳に追加
成膜材料の固化を抑制し、安定した成膜レートを有する成膜装置を実現する。 - 特許庁
To realize vapor deposition in which oblique vapor deposition and the reduction of a vapor deposition rate are prevented by a compact system.例文帳に追加
斜め蒸着、蒸着レートの低下を防止した蒸着を、小型の装置で実現すること。 - 特許庁
Consequently, the vacuum deposition apparatus can stably measure the exact vapor deposition rate, and can form the high-accuracy vapor deposition film based on the rate.例文帳に追加
そのため、真空蒸着装置は正確な蒸着レートを安定的に計測でき、これに基づいて高精度な蒸着膜を形成することができる。 - 特許庁
To provide an inexpensive vapor deposition source cell capable of setting an extensive vapor deposition rate and obtaining an stable vapor deposition rate.例文帳に追加
広範囲な蒸着レートの設定が可能で、安定した蒸着レートを得ることが可能な安価な蒸着源セルを提供する。 - 特許庁
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「deposition rate」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 630件
To stably measure an exact vapor deposition rate, and to allow a high-purity vapor deposition film to be formed based on the vapor deposition rate.例文帳に追加
真空蒸着装置において、正確な蒸着レートを安定的に計測して、この蒸着レートに基づいて高精度な蒸着膜を形成する。 - 特許庁
DEPOSITION OF HIGH GROWTH RATE SILICON DIOXIDE例文帳に追加
高成長率の二酸化ケイ素の堆積 - 特許庁
CVD SYSTEM, METHOD FOR CONTROLLING FILM DEPOSITION RATE AND SOLAR BATTERY例文帳に追加
ＣＶＤ装置、成膜速度制御方法、及び、太陽電池 - 特許庁
METHOD FOR MEASUREMENT OF DEPOSITION RATE DURING COATING例文帳に追加
塗装時における塗着率測定方法 - 特許庁
EARTH AND SAND DEPOSITION AND ACCUMULATION RATE ESTIMATING METHOD例文帳に追加
土砂沈殿堆積速度推定方法 - 特許庁
To provide a deposition apparatus capable of enhancing a deposition rate while maintaining high deposition uniformity, and a thin film deposition method using the same.例文帳に追加
高い蒸着均一度を維持しつつ蒸着率向上させることができる蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法を提供する。 - 特許庁
In the initial stage of film deposition, the film deposition rate is set to a first rate, and after the gold thin film reaches a predetermined film thickness, the film deposition rate is set to a second rate being at least twice as the first rate.例文帳に追加
ここで、成膜初期においては、成膜速度を第１速度に設定し、金薄膜の膜厚が一定の膜厚以上になると、成膜速度を第１速度の少なくとも倍の第２速度に設定する。 - 特許庁
To provide a film deposition system and a film deposition method where a film deposition rate and the thickness of a deposited film can be extremely satisfactorily controlled while holding the film deposition rate by vapor deposition.例文帳に追加
蒸着による成膜速度を保ちながらも極めて良好に成膜速度および成膜膜厚を制御することが可能な成膜装置、および成膜方法を提供する。 - 特許庁
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