silicon dioxide layerとは 意味・読み方・使い方

The hard mask has a two-layer structure of BARC (lower antireflection layer) on a silicon dioxide.例文帳に追加

ハードマスクは、シリコン二酸化物層上にＢＡＲＣ（下部反射防止層）の二層構造を有する。 - 特許庁

This embodiment comprises a silicon substrate 2, a silicon dioxide layer 3, a monocrystal silicon layer 4, a silicon dioxide layer 5, a spacer 13 of N+ doped polysilicon, a conformal layer 15 of a conductive diffusion preventing substance, a metal silicide layer 16, a CVD silicon dioxide layer 17, an insulator spacer 18, a silicon oxide layer 19, and a polysilicon 21.例文帳に追加

シリコン基板２、二酸化シリコン層３、単結晶シリコン層４、二酸化シリコン層５、Ｎ＋ドープ・ポリシリコンのスペーサ１３、導電性拡散防止物質のコンフォーマル層１５、金属シリサイド層１６、ＣＶＤ二酸化シリコン層１７、絶縁体スペーサ１８、酸化シリコン層１９、ポリシリコン２１を備える。 - 特許庁

The deposition and thermal oxidation processing of the amorphous silicon layer is repeated so that multilayer multicrystalline silicon/silicon dioxide laminated layers are formed.例文帳に追加

非晶質シリコン層の堆積及び熱酸化処理は繰り返され、複数層の多結晶シリコン／二酸化シリコン積層膜を形成する。 - 特許庁

The first hard layer is constituted of dielectric material or lacquer selected from a group of silicon dioxide, silicon carbide, silicon nitride, and zinc sulfide-silicon dioxide.例文帳に追加

前記第１硬質層は、二酸化シリコン、炭化珪素、窒化珪素、及び硫化亜鉛−二酸化シリコンのグループから選ばれた誘電体材料またはラッカーから構成される。 - 特許庁

The silicon dioxide layer is subjected to remote plasma nitriding, so that a silicon oxide/nitride layer 106 of oxidation resistance is formed.例文帳に追加

二酸化シリコン層のリモート・プラズマ窒化が行われ、酸化に対する耐性を有するシリコン酸化窒化物層（１０６）をつくる。 - 特許庁

The reflective layer 40 is composed of a laminated film of silicon dioxide (SiO_2) and titanium dioxide (TiO_2) for instance.例文帳に追加

反射層４０は、例えば酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）と酸化チタン（ＴｉＯ_２）との積層膜から構成されている。 - 特許庁

Moreover, the silicon dioxide layer is formed having 0.4-4.8 mass% of an oxygen concentration.例文帳に追加

また、二酸化珪素層は、酸素濃度として０．４質量％〜４．８質量％が形成されている。 - 特許庁

A thin (for example, up to 15 Å) silicon dioxide layer is formed on a substrate 102.例文帳に追加

薄い（例えば、〜１５オングストローム）二酸化シリコン層が基板（１０２）上に形成される。 - 特許庁