Ingeniería de Procesos II, Universidad Nacional del Callao

GRAFENO: MATERIAL DEL FUTURO

Ciro E. Cayllahua Escalante 1, Franco Raúl Mendívil Baldeon 2, Julisa K. Cortavarria De La Cruz 3,

Facultad de Ingeniería Química/Universidad Nacional del Callao, Lima, Perú

Curso de Ingeniería de Procesos II.

RESUMEN

El grafeno, una alotropía del carbono, es un logro de los avances de la nanotecnología. Siendo una
nanoestructura, este componente estructural del grafito posee propiedades que lo han convertido en un
potencial sustituto del silicio en el diseño y fabricación de circuitos integrados. En este articulo se muestra las
propiedades que tiene este material y sus formas de obtención.

Palabras clave:. Grafeno, Nanotecnologia, Metodo Hummers

Recibido: 29 de Agosto de 2019. Aceptado: 29 de Agosto de 2019

Received: Agust 29, 2019 Accepted: Agust 29, 2019

GRAPHENE: MATERIAL OF THE FUTURE

ABSTRACT
Graphene, an allotropy of carbon, is an achievement of nanotechnology advances. Being a nanostructure, this
structural component of graphite has properties that have made it a potential substitute for silicon in the design
and manufacture of integrated circuits. This article shows the properties that this material has and its ways of
obtaining it.

Keywords: Graphene, Nanotechnology, Hummers method

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I. INTRODUCCIÓN diamante, pero es muchísimo más ligero.

• Es más flexible que la fibra de carbono pero igual
de ligero.
El grafeno es una estructura laminar plana, • La radiación ionizante no le afecta.
bidimensional del espesor del orden de un átomo. • Presenta un bajo efecto Joule (calentamiento al
La red está compuesta por átomos de carbono conducir electrones).
densamente empaquetados en dos subredes • Para una misma tarea el grafeno consume menos
cristalinas tipo panel de abejas mediante enlaces electricidad que el silicio.
covalentes que se formarían a partir de la • Es capaz de generar electricidad por exposición a
superposición de los enlaces híbridos sp2 de los la luz solar.
átomos de carbonos. • El grafeno es un material prácticamente
El aspecto relevante de esta configuración es que los transparente.
valores experimentales del grafeno, tales como la • Es muy denso y no deja pasar al helio en forma
conductividad y la absorción óptica, vienen gaseosa, sin embargo si deja pasar al agua, la cual,
definidos por unidades físicas fundamentales encerrada en un recipiente de grafeno, muestra
independientemente del origen de la muestra. una velocidad de evaporación similar a la que
Difícilmente se puede encontrar un material que muestra en un recipiente abierto.
haya creado tantas expectativas en la comunidad
científica y en tan poco tiempo como el grafeno. Teóricamente, en el grafeno los electrones se
comportan como cuasipartículas, o sea, como
Su espectacular auge rivaliza ya con el que en su día
partículas cargadas eléctricamente pero con masa
tuvieron los nanotubos de carbono, las multicapas
igual a cero. Estos cuasifermiones, conocidos como
magnéticas, las heteroestructuras semiconductoras
fermiones sin masa, o de Weyl-Dirac, son vitales en
e incluso con el de los propios superconductores de
la Teoría Relativista. Estos fermiones de Weyl Dirac
alta temperatura crítica. El hecho de que su valor
se mueven a una velocidad constante de
experimental venga definido por unidades físicas
aproximadamente 106 m/s.
fundamentales, independientemente del origen de
la muestra de grafeno, es algo extraordinario y
teóricamente no resuelto.

II. PROPIEDADES

El grafeno (Figura 1), como elemento estructural

componente del grafito es el material más
conductor y resistente que existe en la actualidad y
estas características lo hacen un futuro sustituto del
Figura 1. a) Simulación de capas de grafeno, b)
silicio en la fabricación de chips en la electrónica
grafeno real, imagen de microscopía electrónica de
integrada.
transmisión
•Alta conductividad términa. III. APLICACIONES
• Alta conductividad eléctrica.
 Aplicaciones electrónicas:
• Alta elasticidad (deformable).
• Alta dureza (resistencia a ser rayado). Pantallas táctiles, Papel electrónico (e-paper),
• Alta resistencia. Diodos orgánicos de emisión de luz (OLED)
El grafeno es aproximadamente 200 veces más plegables, Transistores de alta frecuencia.
resistente que el acero, similar a la resistencia del

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 Aplicaciones fotónicas:
Fotodetectores, Láseres de modo bloqueado,
Moduladores ópticos, Controladores de
polarización.
 Materiales compuestos y recubrimientos

 Generación y almacenamiento de energía:

Células solares, Baterías, Supercondensadores, Pilas
de combustible.

 Sensores y metrología
 Aplicaciones biomédicas

IV. METODOS DE OBTENCIÓN DEL

GRAFENO Figura 2: Reducción de óxido de grafeno

 Deposición química de vapor:

 Reducción de óxido de grafeno
La deposición química de vapor (o CVD, por sus
Los métodos modernos de reducción de óxido de siglas en inglés) es uno de los métodos de
grafeno parten de grafito oxidado, y se basan, en su fabricación de grafeno más populares en la
gran mayoría, en el conocido como método actualidad. Se trata de un proceso escalable que
Hummers (reportado por Hummers y Offeman en utiliza una tecnología madura a nivel industrial.
1958). Mediante éste se oxida grafito a partir de una También se puede implementar a menor escala en
mezcla de ácido sulfúrico concentrado, nitrato de laboratorios. El grafeno fabricado mediante CVD, y
sodio, y permanganato de potasio. Para exfoliar en particular depositado sobre un substrato
químicamente el óxido de grafito, y así conseguir metálico, permite un producto de superficie
óxido de grafeno, se transmite energía sonora continua y relativamente grande, dando lugar a
mediante ultrasonidos al precursor, disperso en distintas aplicaciones, en particular aquellas que
agua o en un solvente orgánico. Una vez se ha requieren grafeno de alta calidad
llevado a cabo la exfoliación, una centrifugación
posterior permitiría separar las láminas producidas
de los residuos (principalmente, el óxido de grafito
no exfoliado). La reducción final del óxido de
grafeno se puede realizar gracias a agentes
reductores, a un tratamiento térmico, o a reducción
electroquímica.

Figura 2. Deposición química de vapor.

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V. MATERIALES Y MÉTODO proceso de recocido se lleva a cabo durante

30 minutos.
3. Deposición del carbono: Después del
Materiales Y Materias primas:
recocido, se hace fluir una mezcla de
 Láminas flexibles de cobre, de grosor 25 µm, metano (CH4, como precursor de átomos de
60 cm x 50 cm carbono) e hidrógeno durante 30 minutos,
 Adhesivo térmico de la marca japonesa a una temperatura de 1000ºC y a una
Nitto Denko Corporation presión de 2,133 mbar. Los flujos de gas
 Ácido acético utilizados serán los siguientes: 2,4·10-5 m3
 Cloruro férrico /min para el metano, y 8·10-6 m3 /min para
 Agua desionizada el hidrógeno (medidas en condiciones
 Metano estándar). Una vez transcurrido el tiempo
 Hidrógeno indicado, se enfría hasta temperatura
ambiente, manteniendo el flujo de
Equipos: hidrógeno y una presión aproximada de
0,12 mbar. Esta etapa se lleva a cabo en el
 Prensa de rodillos
reactor de deposición química de vapor, al
 Reactor que se alimenta con los gases necesarios.
 Equipo de corte manual 4. Corte: Se puede recurrir a una etapa de
corte. La flexibilidad del substrato de cobre
MÉTODO
hace que se trate de un procedimiento
1. Limpieza del substrato: Eliminar las posibles simple, que se llevará a cabo con un
impurezas presentes en las láminas de instrumento de corte de precisión. Se ha
cobre. Éstos se dispondrán en diversas decidido utilizar en este caso un equipo
cubetas de laboratorio, de medidas manual.
suficientemente grandes como para 5. Transferencia: En primer lugar, se coloca un
sumergir completamente. Utilizar ácido adhesivo térmico sobre la superficie de la
acético para eliminar impurezas, que lámina de cobre donde se ha depositado el
también es efectivo. grafeno. Esto se lleva a cabo con una prensa
2. Recocido del substrato: Se realiza este de rodillos (en inglés, nip rolls), aplicando
tratamiento térmico del substrato para una presión de 0,2 MPa. Se propone el uso
aumentar el tamaño de los granos de adhesivo térmico de la marca japonesa
cristalinos, desde unos cuantos Nitto Denko Corporation. El siguiente paso
micrómetros hasta ~100 µm. Para ello, se consiste en remover el substrato de cobre
inserta la lámina de cobre en el reactor, por con un baño de cloruro férrico (FeCl3). Para
el que se hace pasar un flujo constante de asegurarnos que se elimina todo el cobre, se
H2 (flujo de 8·10-6 m3 /min en condiciones ha decidido prolongar el baño durante 30
estándar), a una temperatura de 1000ºC y a minutos. Una vez se ha removido el cobre,
una presión cercana a 0,12 mbar. Este el grafeno permanece en la superficie del
adhesivo térmico; este conjunto se lava en

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una cubeta de agua desionizada. La VI. REFERENCIAS BIBLIOGRÁFICAS

transferencia al substrato final se realiza
con una prensa de rodillos bajo una
[1]. Cremades Oliver, “Estudio de viabilidad de una
calefacción moderada (90-120ºC),
planta de producción de grafeno”. Encontrado en:
permitiendo la fácil liberación del adhesivo https://upcommons.upc.edu/handle/2099.1/22284
así como un ritmo de transferencia de 150 a
200 mm/min.
6. Almacenamiento: Las superficies de grafeno [2], Romero Rosa, “Síntesis del grafeno derivado
químicamente mediante la reducción química de
sobre el substrato final se almacenarán en óxido de grafeno”. Encontrado en:
cajas de plástico, adaptadas en la medida de https://repositorio.ipicyt.edu.mx/bitstream/handle
lo posible al tamaño del producto. Se /11627/3019/TMIPICYTR6S52015.pdf?sequence=1
añadirá una protección de espuma de &isAllowed=y&fbclid=IwAR0Ena0JZVxhlSMLnknBZT
polietileno para minimizar posibles daños S8BA4R9iqZ2qhaNKVgGrE3O5yi3JQYgo1_haI
por golpes. [3]. H. torres Silva, J.L. López Bonilla “Aspectos
Quirales del grafeno”. Encontrado en:
DIAGRAMA DE FLUJO https://scielo.conicyt.cl/pdf/ingeniare/v19n1/art08
.pdf

Figura 2: Diagrama de flujo del proceso de

producción.