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【セミコン・ジャパン】「EUV lithography has come !」――EUV露光の量産適用について討論
「セミコン・ジャパン2009」に合わせて米Cymer Inc.が開催した「Cymer’s 17th Annual Japan Lithography... 「セミコン・ジャパン2009」に合わせて米Cymer Inc.が開催した「Cymer’s 17th Annual Japan Lithography Symposium, 2009」（12月2日，ホテルニューオータニ幕張）において，EUV（extreme ultraviolet）露光の量産適用についてパネル討論が行われた。東芝の東木達彦氏が「EUV lithography has come !」と述べるように，最大の課題であったEUV露光光源の高出力化，安定的な稼働について，Cymerが解決の道筋を示し，Cymerの光源を搭載するオランダASML社のEUV露光装置を使ったデバイスの量産が急速に現実のものになりつつあることを感じさせた。
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