Tarea Catálisis
Tarea Catálisis
Tarea Catálisis
DESARROLLO TAREA
Catálisis Heterogénea
1. Determine la cantidad que se debe masar de (NH4)6H2W12O40*5H2O para preparar 1,5 gramos de
catalizador con 2 átomos de W por nm2. (BET = 250 m2/g). ¿Cuánto es el porcentaje en peso de W
en Al2O3?
1𝑎𝑡.𝑊 1𝑚𝑜𝑙 𝑊 183.84𝑔𝑊 250𝑚 2 (1𝑛𝑚)2
1𝑛𝑚 2𝑠𝑜𝑝𝑜𝑟𝑡𝑒
∗ 6.02𝑥1023 𝑎𝑡.𝑊 ∗ 1𝑚𝑜𝑙 𝑊
∗ 1𝑔 𝐶𝑎𝑡𝑎𝑙𝑖𝑧𝑎𝑑𝑜𝑟 ∗ (1𝑥10−9𝑛𝑚)2 ∗ 1.5𝑔 𝐶𝑎𝑡𝑎𝑙𝑖𝑧𝑎𝑑𝑜𝑟
= 0,1149𝑔𝑊
= 1,904𝑔(NH4)6H2W12O40 ∗ 5H2O
2. - Investigue los métodos ALD y CVD de preparación de catalizadores. Descríbalo y comente qué
diferencias hay entre ellos. De un ejemplo de catalizadores preparados con cada uno de estos
métodos.
Método ALD
La deposición de capa atómica (ALD) es un método el cual no utiliza solventes para preparar
catalizadores mediante la adición de precursores metálicos gaseosos a una superficie sólida. En
condiciones adecuadas, los precursores metálicos se adhieren a la superficie del sustrato mediante
quimisorción y la saturan. Es utilizado para preparar diferentes películas delgadas, sin embargo se
puede usar para preparar catalizadores. En el cual también se utilizan varios soportes por ejemplo
catalizadores con soporte de carbono con metales como Pt-Pd en Al2O3. Una de sus principales
ventajas es que da como resultado pequeñas partículas de metal con una distribución de tamaño
de partícula y una alta dispersión de metal en comparación con los métodos de impregnación,
usados tradicionalmente. Además, es muy utilizado para los catalizadores bimetálicos porque la
disponibilidad de los metales en la superficie del catalizador se puede controlar en función del orden
de los ciclos de los metales en el proceso de ADL. (Sairanen et al., 2014)
La deposición química en fase vapor (CVD), designada en ocasiones como descomposición química
de hidrocarburos en fase vapor (Ma.Endo 1988) (N.R.C Park 1997). Esta técnica ha sido ampliamente
utilizada en la fabricación de circuitos integrados de silicio para crecer películas metálicas,
semiconductoras y dieléctricas. Por lo general se basa en la formación térmica de radicales activos
desde un gas precursor, el cual conduce a la deposición de la película elemental o compuesta sobre
un sustrato. Regularmente la misma película puede ser sintetizada a menor temperatura por
disociación del precursor con la ayuda de electrones de alta energía con una descarga de plasma de
resplandor. Este método proporciona nanofibras en gran cantidad, con buena calidad y se puede
hacer un aumente de escala, e inclusive lograr sintetizar nanofibras por descomposición de alcohol
a presión atmosférica. El Mo/SiO2 es un catalizador soportado obtenido mediante CVD en dos
etapas en la metátesis foto inducida de propileno (Yu. Stakheev et al.,1999)
Una de las principales diferencias entre estos dos métodos son los mecanismos para depositar
material, en CVD los precursores experimentan descomposición térmica mientras que los
precursores de ALD experimentan reacciones química a menudo sustitución nucleofilica. Los
precursores de ALD deben exhibir una mayor estabilidad térmica en comparación con sus
contrapartes de CVD (Ou, Su, Bock, & Mcelwee-white, 2020).
3. Encontrar la expresión integrada para la ley de velocidad de orden n para una reacción (A → B)
llevada a cabo en un reactor de lecho fijo y flujo continuo.
Reacción (A → B)
𝑑𝐶𝐴𝑛
𝑘 ∗ 𝑎 ∗ 𝑑𝑡 =
𝐶𝐴𝑛
𝑡 𝐶 𝑑𝐶𝐴
−𝑘𝑎 ∫0 𝑑𝑡 = ∫𝐶 𝐴
𝐴0 𝐶𝐴𝑛
Resolviendo:
𝐶 1
−𝑘 ∗ 𝑎 ∗ 𝑡 = ∫𝐶 𝐴 𝐶𝐴−𝑛 𝑑𝐶𝐴 = 𝐶 −𝑛+1
𝐴0 −𝑛+1 𝐴
1 1 1 1 1 1
−𝑘 ∗ 𝑎 ∗ 𝑡 = ( − ) 𝑘∗𝑎∗𝑡= ( − )
−𝑛+1 𝐶𝐴𝑛−1 𝑛−1
𝐶𝐴0 𝑛−1 𝐶𝐴𝑛−1 𝑛−1
𝐶𝐴0
Posterior a esto utilizamos el procedimiento anterior para encontrar la ecuación cinética integrada
de orden n en un reactor de lecho fijo y flujo continuo.
𝐹
𝑤= [𝐶𝐴1−𝑛 − 𝐶𝐴𝑜
1−𝑛 ]
𝑘(𝑛−1)
4. En el mecanismo de la hidrogenación del nitrito se han propuestos 3 mecanismos para la
formación de NH adsorbido. Confirme o no si estos tres mecanismos a baja presión de H2 presentan
similar ecuación cinética, asuma que la etapa limitante es la etapa 6 (RDS) de cada modelo.
Modelo 1
𝐻2 + 2 ∗ ⇋ 2𝐻 ∗ (equilibrium reaction 1, 𝐾1 )
𝑁𝑂2− + ∗ ⇋ 𝑁𝑂2− ∗ (equilibrium reaction 2, 𝐾2 )
1) [H*]2=K1[H2] [*]2
2) [NO-2*]=K2[NO-2] [*]
3) [NO*][H2O][*] =K3[NO-2*][H*][H+]
4) [N*][O*]= K4[NO*][*]
5) [*]3[H2O]=K5[O*] [H*]2
Despejando:
3 3
[N ∗] = 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 + ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2− ][∗]
2
[∗]3[𝐻2𝑂]
5) [O ∗] = 𝐾 2
5 𝐾1 [𝐻2 ][∗]
[∗][𝐻2 𝑂]
[O ∗] =
𝐾5 𝐾1 [𝐻2 ]
Balance de sitios:
Reacción 𝑵∗ + 𝑯∗ → 𝑵𝑯∗ + ∗
v = 𝑘6 [𝑁 ∗][𝐻 ∗]
𝐯
𝑘6 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾12 [𝐻 + ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2− ][∗𝑜 ] 2
= 3 2
1 3 [𝐻2 𝑂]
(𝐾1 1/2
[𝐻2 ]
1/2
+ [
𝐾2 𝑁𝑂−
2 ] + 𝐾3 𝐾2 𝐾1 1/2
[𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ] [
+ −1 2 𝑁𝑂−
2 ]+1 + 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾21 [𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ] [
+ −2 2 𝑁𝑂−
2 ]+ )
𝐾5 𝐾1 [𝐻2 ]
Modelo 2
𝐻2 + 2 ∗ ⇋ 2𝐻 ∗ (equilibrium reaction 1, 𝐾1 )
1) [H*]2=K1[H2] [*]2
2) [NO-2*]=K2[NO-2] [*]
3) [NO*][H2O][*] =K3[NO-2*][H*][H+]
4) [NOH*][*]= K4[NO*][H*]
5) [N*][H2O][*]=K5[NOH*] [H*]
Despejando:
Balance de sitios:
[∗𝑜 ] = [H ∗] + [𝑁𝑂2− ∗] + [NO ∗] + [∗] + [𝑁𝑂𝐻 ∗] + [𝑁 ∗]
[∗]
[∗𝑜 ]
= 1
− + − + −
√𝐾1 [𝐻2 ] + 𝐾2 [𝑁𝑂2 ] + 𝐾3 𝐾2 √𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2 ] + 1 + 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ][𝑁𝑂2 ] + 𝐾5𝐾4𝐾3𝐾2𝐾13/2[𝐻+][𝐻2𝑂]−2[𝐻2]3/2
Reacción: 𝑵∗ + 𝑯∗ → 𝑵𝑯∗ + ∗
v = 𝑘6 [𝑁 ∗][𝐻 ∗]
𝐯
2 + − 2
𝑘6 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2 ][∗𝑜 ]
= 1
(√𝐾1 [𝐻2 ] + 𝐾2 [𝑁𝑂2− ] + 𝐾3 𝐾2 √𝐾1 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂−
2 ] + 1 + 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ][𝑁𝑂2 ] + 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1
+ −1 − 3/2
[𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]3/2 [𝑁𝑂−
2]
Modelo 3
𝐻2 + 2 ∗ ⇋ 2𝐻 ∗ (equilibrium reaction 1, 𝐾1 )
𝑁𝑂2− + ∗ ⇋ 𝑁𝑂2− ∗ (equilibrium reaction 2, 𝐾2 )
𝑁𝑂2− ∗ + 𝐻∗ + 𝐻 + ⇋ 𝑁𝑂∗ + 𝐻2 𝑂 + ∗ (equilibrium reaction 3, 𝐾3 )
1) [H*]2=K1[H2] [*]2
2) [NO-2*]=K2[NO-2] [*]
3) [NO*][H2O][*] =K3[NO-2*][H*][H+]
4) [NOH*][*]= K4[NO*][H*]
5) [*][HNOH*]=K5[NOH*] [H*]
Despejando:
Balance de sitios:
[∗𝑜 ] = [H ∗] + [𝑁𝑂2− ∗] + [NO ∗] + [∗] + [𝑁𝑂𝐻 ∗] + [𝐻𝑁𝑂𝐻 ∗]
[∗]
[∗𝑜 ]
= 1
− + − + −
√𝐾1 [𝐻2 ] + 𝐾2 [𝑁𝑂2 ] + 𝐾3 𝐾2 √𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2 ] + 1 + 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ][𝑁𝑂2 ] + 𝐾5𝐾4𝐾3𝐾2𝐾13/2[𝐻+][𝐻2𝑂]−1[𝐻2]3/2
v = 𝑘6 [𝐻𝑁𝑂𝐻 ∗][𝐻 ∗]
𝐯
2 + − 2
𝑘6 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1[𝐻 ][𝐻2𝑂]−1 [𝐻2]2 [𝑁𝑂2 ][∗𝑜 ]
= 1 2
( √𝐾1 [𝐻2 ] + 𝐾2 [𝑁𝑂2− ] + 𝐾3 𝐾2 √𝐾1 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂−
2 ] + 1 + 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ][𝑁𝑂2 ] + 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1
+ −1 − 3/2
[𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]3/2 [𝑁𝑂2− ])
Considerando: [𝐻2 𝑂] = 1
Cuando se considera baja presión de 𝐻2 :
1
Modelo 1:
𝐯
𝑘6 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾12 [𝐻 + ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2− ][∗𝑜 ] 2
= 3 2
1 3 [𝐻2 𝑂]
(𝐾1 1/2
[𝐻2 ]
1/2
+ [
𝐾2 𝑁𝑂−
2 ] + 𝐾3 𝐾2 𝐾1 1/2
[𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ] [
+ −1 2 𝑁𝑂−
2 ]+1 + 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾21 [𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ] [
+ −2 2 𝑁𝑂−
2 ]+ )
𝐾5 𝐾1 [𝐻2 ]
Modelo 2:
𝐯
2 + − 2
𝑘6 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂2 ][∗𝑜 ]
= 1
(√𝐾1 [𝐻2 ] + 𝐾2 [𝑁𝑂2− ] + 𝐾3 𝐾2 √𝐾1 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂−
2 ] + 1 + 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻 ][𝐻2 𝑂] [𝐻2 ][𝑁𝑂2 ] + 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1
+ −1 − 3/2
[𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−2 [𝐻2 ]3/2 [𝑁𝑂−
2]
Modelo 3:
𝐯
2
𝑘6 𝐾5 𝐾4 𝐾3𝐾2 𝐾21 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1[𝐻2 ]2[𝑁𝑂−
2 ][∗𝑜 ]
= 1 3 3 2
(√𝐾1 [𝐻2 ] + 𝐾2 [𝑁𝑂−2 ] + 𝐾3 𝐾2 √𝐾1 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂−2 ] + 1 + 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ][𝑁𝑂−2 ] + 𝐾5 𝐾4 𝐾3 𝐾2 𝐾1 2 [𝐻+ ][𝐻2 𝑂]−1 [𝐻2 ]2 [𝑁𝑂−2 ])
Se Confirma que los tres mecanismos a baja presión de H2 presentan similar ecuación cinética.
5. Se realizó la conversión catalítica del guaiacol sobre un catalizador de Co@SiO2. De acuerdo a
los siguientes parámetros obtenidos, decidir si la reacción se encuentra limitada por transferencia
de masa interna y si la transferencia de masa externa puede ser despreciada.
𝑅𝑝 Particle Radius, cm Co@SiO2-02 = 2.1 x 10-7
𝜌𝑐 Silica Shell density, cm3 g-1 1.40
𝐷𝑒 Effective Diffusivity, cm2 s-1 2.7 x 10-8
𝐶𝐺𝑢𝑎 Guaiacol Concentration, mol cm-3 3.2 x 10-4
𝑟𝐴(𝑜𝑏𝑠) Observed rate, molGUAs-1gcat-1 Co@SiO2-02 = 9.68 x 10-4
𝜌𝑏 bulk density of catalyst 0.68 g cm-3
𝑘𝑐 mass transfer coefficient 0.129 cm s-1
Criterio de Mears
𝒓(𝒐𝒃𝒔)𝝆𝒃𝒅𝒑 𝒏
𝑪𝑴 = 𝟐𝒌𝒄 𝑪𝑨𝑩
(5.1)
𝐶𝑀 = 3.3486𝑥10−6
Debido a que el valor calculado con el criterio de Mears es menor a 0,15 podemos decir que la
reacción no está limitado por difusión externa.
Criterio de Weisz-Preter(CWP)
−𝒓𝑨 (𝒐𝒃𝒔)𝝆𝑪 𝑹𝟐
𝑪𝑾𝑷 = 𝑫𝒆 𝑪𝑨𝑺
(5.3)
𝑪𝑾𝑷 = 𝟔. 𝟗𝟏𝟕𝟏𝒙𝟏𝟎−𝟔
El valor del criterio de Weisz es menor a 1 por tanto no hay limitación por difusión interna.
6. Un catalizador bimetálico constituido por Cr y Ni soportado sobre SiO2 fue analizado por XPS (los
datos están CANVAS), se solicita:
2p3/2 CrO3
2p3/2 Cr2O3
Átomo 2
2p3/2 Ni
2p1/2 NiO
2p3/2 NiO
Espectro Siilicio
2p3/2 SiO
Relación Cr/Si
𝑨𝟏 +𝑨𝟐
𝑪𝒓 𝒇𝒔𝑪𝒓
= 𝑨𝟏 +𝑨𝟐 (6.1)
𝑺𝒊
𝒇𝒔𝑺𝒊
𝟖𝟕𝟕𝟑.𝟖𝟗+𝟒𝟎𝟎𝟕.𝟒𝟐𝟔
𝑪𝒓 𝟏.𝟔𝟏𝟖
= 𝟏𝟓𝟒𝟑𝟎.𝟑𝟏+𝟏𝟐𝟑𝟖𝟎.𝟓𝟔 = 𝟎. 𝟏𝟓𝟑𝟔
𝑺𝒊
𝟎.𝟓𝟒𝟏
(6.2)
Relación Ni/Si
𝟏𝟐𝟗𝟖𝟎.𝟗𝟕+𝟓𝟑𝟓𝟎.𝟔𝟒𝟐
𝑵𝒊 𝟐.𝟔𝟗𝟔
= 𝟏𝟓𝟒𝟑𝟎.𝟑𝟏+𝟏𝟐𝟑𝟖𝟎.𝟓𝟔 = 𝟎. 𝟏𝟑𝟐𝟐 (6.3)
𝑺𝒊
𝟎.𝟓𝟒𝟏
7. Una muestra fue analizada mediante adsorción y desorción de N 2, los datos se muestran abajo.
A través de estos datos, calcular:
0.00500
0.00400
STP)
0.00300
y = 0.0209x + 0.0003
0.00200
R² = 0.9999
0.00100
0.00000
0 0.05 0.1 0.15 0.2 0.25 0.3 0.35
P/P°
Grafico 7.1 volumen absorbido del absorbato vs presión relativa
𝑉
𝑚
Con la ecuación 𝑆𝐺 = 24414 ∗ 𝑁 ∗ 𝐴𝑚 ∗ 10−18 (7.1)
Se obtiene el área específica con el modelo BET utilizando los datos de la tabla 1
Luego de obtener el área con el modelo BET utilizamos el modelo de Rouquerol para ajustar los
datos y linealizarlos.
𝑷° 𝟐
𝑳𝒐𝒈(𝑽) = 𝑳𝒐𝒈(𝑽𝒈 ) − 𝑫 ∗ 𝑳𝒐𝒈 ( 𝑷 ) (7.2)
1.69000
1.68000
1.67000
Log (V)
1.66000
1.65000
1.64000
1.63000 y = -0.0852x + 1.7528
1.62000
R² = 0.9909
1.61000
1.60000
1.59000
1.58000
0.00000 0.50000 1.00000 1.50000 2.00000 2.50000
log^2 (p°/P)
Grafico 7.3 cantidad de nitrógeno absorbido vs log2 de presión relativa
Volumen de micro-poro
LogV0= 1, 7528 V0 (cm3/g STP) = 56, 5979 V0 (cm3/g) = 0, 08734
Isoterma
300
Cantidad absorbida (cm³/g
250
200
150
STP)
100
50
0
0 0.2 0.4 0.6 0.8 1 1.2
P/P°
Grafico 7.4 Isoterma con ciclo histéresis
Según la clasificación de DBBT esta isoterma de tipo IV con ciclo histéresis H3 con poro tipo rendija
característico de los materiales mesoporosos.
0.040
dV/dw (cm3/g nm)
0.030
0.020
0.010
0.000
0 5 10 15 20 25 30
Pore width (nm)
En el grafico podemos observar que el material tiene una distrbucion de poro entre 5 y 10 nm y se
encuentra según la IUPAC en una clasificación mesoporoso lo que coincide con lo observado en el
gráfico de la isoterma.
Bibliografía
Ou, N. C., Su, X., Bock, D. C., & Mcelwee-white, L. (2020). Precursors for chemical vapor deposition of tungsten oxide and
molybdenum oxide. Coordination Chemistry Reviews, 421, 213459. https://doi.org/10.1016/j.ccr.2020.213459
Sairanen, E., Figueiredo, M. C., Karinen, R., Santasalo-Aarnio, A., Jiang, H., Sainio, J., … Lehtonen, J. (2014). Atomic layer
deposition in the preparation of Bi-metallic, platinum-based catalysts for fuel cell applications. Applied Catalysis B:
Environmental, 148–149, 11–21. https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2013.10.045
Yu. Stakheev, L. M. Kustov, Applied Catalysis A: General 188, 1999, pp. 3–35